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Multilayer Dielectric (MLD) Diffraction Gratings 十多年来，PGL一直为世界上许多最大的超高强度激光装置提供MLD光栅。 薄膜镀膜与光栅设计和制造的结合使得可以极大地提高衍射效率，激光损伤阈值和压缩短脉冲的波前。 用于脉冲压缩的光栅具有非常苛刻的要求 - 除了严格的平坦度和损伤阈值要求外，它们必须在高真空下工作。 在这些条件下膜层最多可达40层，必须小心控制涂层应力，因为太大的压缩应力会使基板变形，而过大的拉应力会导致“开裂”。PGL已开发出一种低应力涂层工艺，用于实现MLD光栅 在非常大的区域内具有出色的均匀性，可在各种工作条件下实现卓越的全方位性能。 
主要特点：
主要优点：
典型应用：
产品详情： PGL在光栅制造，薄膜光学镀膜，反应离子蚀刻，光学计量以及大型光学元件的精密清洁，检测和处理方面拥有广泛的专业知识。 所有这些工艺区域对于高性能MLD衍射光栅都至关重要。 
PGL MLD光栅具有高衍射效率和高损伤阈值。 我们的米级光栅在第一阶中始终实现> 96％的衍射效率，LIDT在600 fs和10 ps时都得到了验证 - 结果是有史以来MLD光栅的最高值。 
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