透射衍射光栅

Transmission Diffraction Gratings

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透射光栅需要非常深的凹槽深度，以实现所需顺序的高衍射效率 - 通常比MLD和金光栅深3-10倍。 PGL开发了一种基于反应离子蚀刻（RIE）的深蚀刻工艺，能够直接在熔融石英基板中获得>2.5μm的沟槽深度。 该工艺的高均匀性加上PGL的Nanoruler光栅写入技术中实现的扫描光束干涉光刻技术的精确性，可实现出色的衍射波前误差性能。

卓越的增透膜（AR）涂层对透射光栅也很重要。 PGL在薄膜涂层方面的经验使我们能够为每种透射光栅设计生产我们自己的优化增透膜。 由此产生的光栅非常适用于从激光脉冲压缩机到光谱仪的紧凑型商用系统。

主要特点：

主要优点：

典型应用：

产品详情：

PGL的光栅曝光和蚀刻工艺可产生极其光滑，均匀和深的光栅槽，可实现可忽略的衍射波前畸变和高均匀性以及衍射效率。

下图显示了针对800 nm优化的1,200 l / mm光栅的理论衍射效率与输入波长和入射角的关系。 实际光栅通常比理论值低1 - 2％。

聚焦光栅

除了PGL用于标准光栅的SBIL光栅写入技术的许多优点 - 高衍射效率，一致的占空比以及零件到零件的10 ppb周期重复性 - Nanoruler还可以轻松生成弯曲光栅线。 因此，我们可以生产球形和圆柱形聚焦光栅。

这种新颖独特功能的应用范围从超高强度激光装置的简化（减少元件数）到用于退火系统的准分子激光器的圆柱聚焦，到用于基于激光的自由空间通信的透镜